2003年12月11日

「次世代化学プロセス」が終了、ノンハロゲンなど7テーマに成果

【カテゴリー】：行政/団体 【関連企業・団体】：日本油脂

1995（平成7）年度にスタートした「次世代化学プロセス技術開発研究」（シンプルケミストリー）が今年度限りで終了する。当初は10ヵ年の予定だったが、国の財政事業から1年短縮されることになった。この間に取り上げたプロジェクトは7つ。うち5つはすでに研究を終了し、いくつかは企業の最前線で早くも生かされている。 　 　「次世代化学プロセス研究」は、経産省の技術開発重点プロジェクトの1つとしてスタートした。その当時、停滞しつつあった化学技術に省エネ・省資源を促し、革新技術を生み出していこうというのが狙いだった。 　 　プロジェクト化されたのは以下の7テーマ。 （1）固相反応場利用プロセス技術（1995〜98年度） （2）ナフサ接触分解技術開発（1995〜99年度） （3）新反応機構利用プロセス技術（1997〜2000年度） （4）飽和炭化水素の選択酸化反応技術の開発（1997〜2001年度） （5）ノンハロゲン化学プロセス技術開発（1999〜2002年度） （6）多相系触媒反応プロセス技術の開発（2000〜2003年度） （7）親固体酸プロセス技術の開発（2001〜2003年度） 　いずれも「次世代」につながる共通基盤技術で、テーマごとに多くの企業や大学、国の研究機関が参加し、産学官一体となって研究に取組んだ。実用化につながった研究も多い。2002年度に研究を終えた「ノンハロゲン化学プロセス」では、チームに参加した日本油脂が、ここでの研究成果を生かして「水も油もはじくナノレベルの微粒子」を開発。自動車やビルの汚れを簡単に落とす表面処理剤として商品化した。近く本格的に売り出すという。