2005年08月02日

31日から「国際洗浄産業展」 東京ビッグサイト

VOC対策フェアも併催

【カテゴリー】：行政/団体 【関連企業・団体】：なし

日本産業洗浄協議会(JICC)と日本産業機械工業会は8月31日から9月2日まで東京・有明の東京ビッグサイトで「国際洗浄産業展」−2005地球環境保護を開く。VOC(揮発性有機化合物)対策フェアも併設する。参加無料、要登録。 　 　同展示会にあわせてJICCは9月1日、第10回洗浄技術フォーラムを開く(参加費：会員7,000円、一般9,000円)。テーマは特別講演が「フロンなどに係るオゾン層保護・地球温暖化防止対策の推進ついて」(安達徹・経産省化学物質管理課オゾン層保護等推進室長)、「新しい環境経営・支援システム“エコステージ”のJALグループにおける実践効果」(富士ゼロックス、日本航空、JALシュミレーターエンジニアリング)。 　 　技術発表がVOC温暖化防止などの規制に対応する洗浄・水切り装置、光学部品洗浄装置、HCFCと同等以下のランニングコストを実現した“エルノバV2”の開発、環境特性・不燃性、高洗浄力を兼ね備えた画期的な洗浄剤“ゼオローラHG10”など。 　 　また、「2005地球環境保護 土壌・地下水浄化技術展」、「VACUUM2005−真空展」、「第21回フルードパワー国際見本市」、「パワートランスミッションエキスポ2005」も併催される。