2008年04月07日

東京理大、世界初「400℃に耐える高性能離型剤」開発に成功

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：なし

東京理科大学の好野則夫教授（工学部工業化学科）はこのほど、400℃の高温に耐える、ふっ素系シランカップリング剤（耐熱性離型剤）の開発に世界で初めて成功したと発表した。これにより次世代大容量メディアといわれる、テラバイトのメディアの開発をはじめ、多くの次世代技術を実現させる微細加工技術、熱ナノインプリント技術の発展が見込まれるとしている。 　 　ナノインプリンテイングは「はんこの原理」を応用し、パターンの鋳型を樹脂に押し付けて転写する作業を、ナノメートルレベルの微細物質で行う技術のこと。主に、半導体を製造する際、基盤に回路パターンを転写する表面加工の手法の一つとして利用されている。 　 　離型剤は、パターニングの際、樹脂と鋳型が癒着しないようにするために用いられる。ナノインプリンテイングの場合も同様だが、耐熱性に優れた離型剤がないため、現在使用されているナノプリンティングのほとんどは熱を使わない、光硬化を利用した光ナノインプリントとなっている。 　 　今回、世界で開発に成功した離型剤は、400℃、10時間の熱暴露に耐えることができ、熱ナノインプリント技術の実用化とその性能の向上に大きく寄与するとと考えられる。耐熱性が向上することで、これまで一部の素材に限られていたポリマー素材に、多様で高性能な素材が適用でき、従来以上に深い切れ込み構造をもったパターンが加工できると同大学ではいっている。 　 　問い合わせは同大学科学技術交流センター（承認TLO） Tel：03−5225−1089