2010年04月19日

サイヴァクス社、超微細加工でLEDの光取り出しを高効率化

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：なし

サイヴァクス(SCIVAX、本社・川崎市、TEL044-820-0551)はナノインプリント(超微細加工)技術によりLED (発光ダイオード)素子内に超微細構造を形成し、素子内での光の反射を抑制し、LEDの光取り出し効率を向上させることに成功した。 同社はR&Dと量産に向けてのナノインプリント・トータルソリーュションが提供できるとしている。超微細構造の最適化には日本アールソフトデザイングループのフルウエーブ(FullWAVE)が用いられている。 フィルム、レジスト、シリコンウエハー、サファイアなどからナノインプリント用マスターモールド(金型)を使って、ハニカムパターンのフィルム成型あるいはレジスト成型する技術。 LEDの高効率化には内部量子効率、光取り出し効率など様々な要因がかかわっている。その解析には半導体の特性解析や光学解析ツールによるレンズなどの解析が行われた。しかし最近ではナノテクノロジが応用されている。 ナノ構造のフォト二ック結晶を使ったLEDの光取り出し効率など光学特性を解析するEDTD(時間領域差分)法、並列演算機能と不均一メッシュ生成機能により、大規模な3次元空間の高速シミュレーションが可能なFullWAVEやRCWA(厳密結合波解析)法など。 LEDなどの解析ではFullWAVEは光の伝搬特性解析のほか、LEDの発光スペクトラムの正確なシミュレーションを行うことが可能で、精度の高い解析ができる。また、点光源の機能も備えている。 サイヴァクスではナノインプリントで材料、モールド、装置、生産プロセス、評価が完全に把握できるとしている。