2015年04月27日

三菱化学、SUNY Polyと次世代半導体向け洗浄剤開発 委託契約

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：三菱化学

三菱化学は27日、米国ニューヨーク州立ポリテクニック・インスティテュート（SUNY Poly）と、次世代半導体製造の際にCMP（化学機械的研磨）工程で使用される洗浄剤の評価委託契約を締結したと発表した。 併せて、SUNY Polyおよび世界の主要半導体メーカーが参加するコンソーシアム、セマテック（SEMATEC）が運営する、次世代CMP工程および材料を開発するCMPセンターに参画する。 三菱化学は電子デバイス製造工程で使用される各種EL薬品を1981年に事業化するなど多くの実績を有する。1996年には製造・販売拠点を台湾に設置、ビジネスを拡大してきた。 今回の評価委託契約とCMPセンターへの参画により、同センターが保有する世界最高水準の半導体装置・技術を活用し、10nm、7nmといったテクノロジーノードの次世代半導体に対応可能なCMP後洗浄剤の開発・評価が可能となる。 【SUNY Polytechnic Instituteの概要】 　SUNY Polyは、2つのニューヨーク州立カレッジ、SUNYナノスケール理工学カレッジ（CNSE）とSUNYテクノロジー・カレッジ（SUNY IT）が合併してニューヨーク州立大学内に設立された。世界をリードする最先端研究教育機関として、これまでに200億ドル以上のハイテク分野への投資を行い、300以上の企業パートナーと提携して、ニューヨーク州内各地に研究拠点を構築してきた。 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1430110297.pdf