上海昭和電子化学材料外観

昭和電工は8日、電子材料用高純度ガスの需要が好調なため、上海昭和電子化学材料（SSE）の隣接地に第二工場用地を取得し、高純度N2O（亜酸化窒素）および高純度C4F8（オクタフルオロシクロブタン）の製造設備を建設すると発表した。2021年下期稼働開始の予定。

高純度N2O は主に半導体やディスプレイ製造時の酸化膜の酸素源として、高純度C4F8 は主にその酸化膜の微細加工（エッチング）などに使用される特殊ガス。今後は第5世代移動通信（5G）の進展などに伴い、さらなる需要の伸びが期待されている。

同社は、台湾でも同様に拡大が見込まれるため、現地子会社「台湾昭和化学品製造股●有限公司」で2020年春の稼働入りをめどに高純度C4F8 年産150トンの設備新設計画を進めている。

投資額は、上海・台湾を合わせて、約30 億円となる。

【SSE 第二工場の概要】
・面積：約10,000 平米
・建設予定設備：高純度N2O 年産能力1,000 トン
・高純度C4F8 年産能力 600 トン
・高圧ガス危険物倉庫
・働開始予定：2021 年下半期

（注）●はにんべんに分

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