2024年06月12日

三菱ケミ、半導体用感光性ポリマー増強

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：三菱ケミカルグループ

三菱ケミカルグループは12日、フォトレジスト用感光性ポリマー「リソマックス」の需要の伸びに対応するため、生産能力増強を決めたと発表した。三菱ケミカル九州事業所・福岡地区（福岡県北九州市）に、ArF（フッ化アルゴン）フォトレジスト用リソマックスおよびEUV（極端紫外線）フォトレジスト用リソマックスの量産設備を新設する。 　フォトレジスト用感光性ポリマーは、半導体の回路パターンをウエハーに転写するフォトリソグラフィー工程で使用される主成分となる樹脂。同社のリソマックスは、金属含有量や不純物が少ないため、半導体の回路の微細化にともなう高度な品質要求に対応でき、需要も堅調に推移している。 　とくに、微細化に不可欠なArFフォトレジストおよびEUVフォトレジストは日本企業が圧倒的なシェアを持ち、今後も市場成長が見込まれている。 　三菱ケミカルグループは現在、関東事業所・鶴見地区（神奈川県横浜市）でリソマックスを生産しているが、拡大する需要に対応しサプライチェーンの強靭化を図るため、福岡地区に量産設備を新設することにした。 　 　これにより、ArFフォトレジスト用リソマックスの生産能力は2倍以上となる。EUVフォトレジスト用リソマックスは初の量産体制構築となる。稼働開始予定はArFフォトレジスト用リソマックスが2025年10月、EUVフォトレジスト用リソマックスは25年9月。 ニュースリリース https://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1718158784.pdf