2024年10月11日

大陽日酸、米国オハイオ州立大に半導体装置

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：大陽日酸

日本酸素HDグループの大陽日酸（本社：東京都品川区 代表取締役社長：永田 研二社長）は11日、米国のオハイオ州立大学に同社製MOCVD装置およびHVPE装置を納入すると発表した。 　同大学は、ワイドバンドギャップ半導体分野で世界有数の研究機関であり、特に窒化ガリウムや酸化ガリウムなどの次世代パワーデバイス材料に関する研究で優れた業績をあげている。 　同社は今回、高性能な化合物半導体デバイスの製造に不可欠な窒化物用MOCVD装置と酸化物用HVPE装置を納入することになった。今後、同大学の研究開発の加速と、最先端の化合物半導体デバイスの実現につながると期待される。 ＜用語の解説＞ ◆ MOCVD（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）装置　：原料に有機金属やガスを用いながら基板上に化合物半導体の成膜を行う装置。 ◆HVPE（Halide Vapor Phase Epitaxy）装置　：原料に金属塩化物ガスと非金属の水素化物ガスを用いながら基板上に半導体の成膜を行う装置。 ニュースリリース https://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1728630781.pdf