2026年06月25日

レゾナック 半導体向け「高純度フッ化水素ガス」の製造体制を強化

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：レゾナック・ホールディングス

レゾナックは25日、徳山事業所（山口県周南市）に、半導体回路のエッチング工程に使用される「高純度フッ化水素ガス（HFガス）」の製造を2026年内に新たに開始し、川崎事業所と合わせた国内２拠点体制にする予定と発表した。 高純度ガスは、半導体ウエハーの回路形成（前工程）で使われる材料であり、近年の半導体市場の拡大に伴い需要が増加している。特にデータセンターやAI用途の拡大を背景に、半導体チップを3次元的に高密度に積層する構造の採用が進んでおり、積層された多数の層を貫く微細で深い回路を高精度に形成する技術が求められている。 こうしたニーズに対応する技術として注目されているのがクライオエッチング技術で、高純度フッ化水素ガスは、この先端エッチングプロセスにおいて酸化膜の除去などに使用される重要な材料であり、クライオエッチング技術の普及に伴い、より高い純度と安定した供給が求められている。 ＜ニュースリリース参照＞ https://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1782362240.pdf