2026年07月13日

クミアイ化学　中国のピロキサスルホン重要中間体物質特許侵害訴訟和解

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：クミアイ化学

クミアイ化学（本社：東京都台東区、横山　優代表取締役社長）は13日、中国とのピロキサスルホンの重要な中間体について同社が保有する物質特許（特許番号：ZL 201210121587.2、以下「当該特許」）に基づき提起した複数の特許侵害訴訟で勝訴的和解により解決したと発表した。 和解条件の詳細は、 1　当該中国企業各社は、当該特許の有効期間中、直接的・間接的を問わず、当該特許を侵害しない。 2　当該中国企業各社は、当社の知的財産権を尊重し、当社の知的財産権を侵害する、または侵害することで得られたピロキサスルホン製品の製造、調達、販売を行わない。 3　当該中国企業は、当社に対して合意した金銭を支払う。 ＜ニュースリリース参照＞ https://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1783922966.pdf